顯影.蝕刻.清洗.配向膜塗佈

　　在曝光之後對以曝光之光罩做顯影的工作，顯影後我們將不需要的ITO膜做蝕刻，去除不需要的ITO膜，當然我們所需要的圖形會被保護不受到蝕刻，再次清洗光罩後我們將要塗佈配向膜，配向膜是用來將液晶未加電場前分子做定位的工作，其前後兩片光罩上的配向膜需互成九十度方能將液晶分子依序旋轉，其配向方式是以棉刷依一定方向刷過，如下圖6(a)，也有利用蒸鍍的方式配向，不過較花成本，圖6(b)(c)。

圖6(a)

圖6(b)前後光罩配向膜差九十度

圖6(c)貼近光罩之液晶分子順著配向槽排列

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