在射出及壓印光學塑膠產品之製造過程中，吾人利用疊紋技術量測模具及光學塑膠產品之輪廓，並支援製造過程中需要監控之系統。一．疊紋之原理 疊紋( MOIRE )為一個法國字，原意是在形容一個屏風疊加的效果，現在則常用來表示絲綢的圖案，在有些時候，許多人也許都注意

到屏風和絲綢衣服所形成的疊紋圖案，這些圖案是因為兩組以上間隔相接近的細線互相疊加而形成的，而光源則可以是穿透式的，也可以

是反射式的，這時我們可以看出疊紋的圖案出現了大的明帶和暗帶，

明帶出現的原因便在於細線的間隔區同時的出現在一起的結果，而暗

帶出現的原因則是因為細線的條紋區同時出現在一起。

疊紋的原理和量度學中游標尺的原理很類似，它也經常用在應力

的分析上，以決定力場下的 X、Y 方向的微小位移 (u,v) 和應

變 (Ex,Ey) ，疊紋的技術一般應用在量測位移，而可避開量測的體

積、試片、溫度、時間、速度上的一些問題困擾。

當是由每英吋數百條或數千條細線或點所組成時，通常是肉

眼無法看的清楚的，但它們的疊紋，就好像光彈的干涉圖案一般是很

容易觀察得到的，我們可予以拍照、記錄和分析，的確，疊紋技術是

最基本的應力實驗技術，它的方法很簡單，只要壓縮一個的使其

變形，再讓它與未變形的作干涉，便可以得到位移和變形的資料

了。這個方法不仰賴電阻值變化（例如電子應變規）和折射率變化 (

如光彈) ，因此也就不用去考慮陶瓷電阻之潛變問題和光彈系統的不

穩定性了。

這個技術同時也可以作整場的分析，最近令人感興趣的是製

造技術的發展與分析技術之改進。

二．精確度與靈敏度

精度可以利用精確的和母片來獲得，其主要因素為：1. 均勻的條紋間距 P

2. 絕對精確的間隔

3. 線條邊之對比

而靈敏度則與下列幾項因素有關：

1. 條紋間距 P

2. 疊紋圖案之對比，這又和當初設計時有關。

3. 所使用工具之解析度

在一般使用中，之間距之建議值為 1％，例如我們使用 P

=0.001IN 之。而假設其所形成之疊紋間隔為 D=1 IN ，則其光

柵間隔與疊紋間隔之比例為 Ex = P/D = 1000， 此即為其靈敏度

。

如果我們決定條紋間隔為疊紋間隔之 1％ 時，則靈敏度在上例中成為每英吋 10 微英吋。至於在一些梯度比較大的地方，我們可能希望疊紋能產生較小之疊紋間距，這時可以使用所謂的失配 ( MISMATCH ) 母片，無論如何，在決定之間距 P 時，1％ 之建議值仍然是適用的。

三．疊紋基本方法

在疊紋基本方法中，我們稱黏在試片上的為訊號 ( IN-

FOATION GRATING ) ，而固定在觀察者一方以作比對的則被

稱為參考 ( REFERENCE　GRATING ) 。以下為疊紋基本方法之概述：1. 光傳送法 在遙測傳送方法中，一組被投射在另一組上，光束在投射前先經過待測的模具表面為訊息。光傳送法需使用大的相機和穩定的三腳架。參考 (REFERENCE　GRATING ) 置於玻璃板上，其影像連同訊號之訊號一起攝入相機中以產疊紋。

2. 陰影法

在疊紋陰影方法中待測的模具表面印上一層白色或銀色物質，光柵是附著在模具上之一塊玻璃板上，當此板受力時，陰影疊紋可提供待測的模具輪廓變化之訊息。

以一片為訊息（ signal grating ）另一片光柵為參考（ reference grating ）。兩者互相疊合時，將出現另一種條紋，這個條紋稱為疊紋（ moire ）。如果我們將投影至物體表面，再與原來的相疊時，此時亦出現疊紋

的效果，稱之為陰影疊紋法，這些一圈一圈的疊紋，我們可以視之為等高線

，每一條等高線上每個點其高度是相同的。陰影疊紋測繪等高線的裝置，測繪時應盡可能靠近物體。如欲增加靈敏度架設之彈性，則可採用斜向入射，斜向觀測的方式。 側向觀測之陰影疊紋法在實際裝置上，夾角可以高達 70 。