一般焦散術檢驗所需的光學架設儀器大致包括：雷射、試片、透鏡、屏幕及施力架，而焦散術又可分為穿透式和反射式，下面將分別介紹其架設方法：
圖8 穿透式焦散的光學布置
A.穿透式焦散術的光學架設
如圖8穿透式焦散為一基本的焦散術之光學架設。把實驗用的試片放置在雷射與空間濾波器之後，並把空間濾波器後聚焦之雷射光點打到試片的裂縫頂端，試片可以底片夾當作施力架，輕微施力，從屏幕上看試片的影像，可以得到裂縫頂端之陰影因施力變化的影像。裂縫頂端之陰影會隨施力越大而越大，這就是因為裂縫尖端附近的變形區，其厚度及折射率變化有不連續的現象所引起。
在實際實驗中，若光的入射角越小，則實驗誤差越小，屏幕上的影像越沒有扭曲，則實驗誤差越小。因此整個光場必須很小心的架設才行。甚至試片的安裝也得謹慎，先用施力架上端的夾頭夾住試片，然後再以施力架下端的夾頭夾住試片。
B.反射式焦散術的光學架設
圖9為反射式焦散術的光學架設。反射式焦散術的技術比起穿透式焦散，可以看得出其信號較明顯，並且多了其他能夠測量應力變化的訊息。把試片放置在雷射、空間濾波器及兩個透鏡之後，並把空間濾波器後聚焦之雷射光用兩個透鏡形成平行光後聚焦，將聚焦之光束打到試片的裂縫頂端再反射至屏幕上，試片輕微施力，從屏幕上看試片的影像除了可以得到裂縫頂端因施力變化的陰影，在外圍仍有一圈反射式焦散。裂縫頂端之陰影及反射式焦散會隨施力越大而越大。另外在反射式焦散之外尚有因試片的前後反射面引起干涉的條紋，這些干涉的條紋也會隨施力變化越大而變化率越大[15]。而這些干涉的條紋變化率越大的地方，也是應變率最大的地方，通常也就是裂縫尖端的部位。
圖9 反射式焦散的光學布置
反射式雷射投影光斑的技術比起穿透式雷射投影光斑，可以看得出其信號仍然明顯，並且透明的試片材料之反射式雷射投影光斑圖形多了其他能夠測量應力變化的訊息[13] (如圖10（A））﹐但需要較高的雷射輸出功率﹐把試片放置在雷射、空間濾波器及兩個透鏡之後，並把空間濾波器後聚焦之雷射光用兩個透鏡形成平行光後聚焦，將聚焦之光束打到試片的裂縫頂端再反射至屏幕上，試片輕微施力，從屏幕上看試片的影像除了可以得到裂縫頂端因施力變化的陰影，在外圍仍有一圈反射式雷射投影光斑[14]。裂縫頂端之陰影及反射式雷射投影光斑會隨施力越大而越大。至於不透明的試片材料，亦可使用反射式雷射投影光斑的佈置來取得雷射投影光斑的訊息，並且亦能將材料之應力強度因子加以換算求得，在此提供鋁及鋼等試片材料之反射式雷射投影光斑圖形案例，如圖10（B）與圖10（C）所示。
圖10（A）透明的試片材料之反射式焦散影像
圖10（B）鋁試片材料之反射式焦散影像
圖10 （C）鋼試片材料之反射式焦散影像
C.實驗設備簡介
在此僅對可應用於數位量測之雷射投影光斑實驗設備做一簡介，並列出其規格之一例，以為參考。
雷射：其總輸出功率為10ｍＷ以上。
透明材料：如 LEXAN、環氧基樹脂(EPOXY RESIN)、強化玻璃(PLAXIGLAS)、CR.39、及哥倫比亞樹脂(COLUMBIA RESIN)等。試片約50mm´ 450mm ´ 2mm，將所需之裂縫開在要實驗的位置，裂縫寬度不大於0.2mm。
空間濾波器：空間濾波器(Spatial Filter)安裝高倍率透鏡﹐針孔平常可取下﹐如圖11所示。另外再備用兩個透鏡﹐最好是大孔徑的凸透鏡。
圖11空間濾波器
屏幕( Screen )：屏幕採用一片厚度不超過2mm的毛玻璃，應避免油脂殘留在毛玻璃上，可將毛玻璃泡水後在毛玻璃後面取像。或直接在毛玻璃前面取像。
CCD 腳架﹕使用固定式的三腳架﹐如圖12所示。
圖12 CCD 腳架
施力架：施力架其工作程序如下：
a.先將鐵條加工成二長一短之鐵棒，（長鐵棒做兩旁支架、短鐵棒做中心旋轉軸）。
b.將長鐵棒先粗車後再精車至所需尺寸。
c.長鐵棒兩端分別攻牙07，使其能和螺帽配合。
d.車短鐵棒使其到達所需之精度。
e.短鐵棒全部攻牙，但需頂心配合使用
f.鑽孔在短鐵棒上端、供插銷使用，在其下方鑽一小孔、供螺絲使用，用剩下之鐵材車一根插銷。
g.將鋁材分成二長條形和方形，分別加工。
h.將長條鋁材用銑床銑至所需之尺寸，然後再進行鑽孔加工。
i.將方形鋁材用銑床銑成ㄇ字型之標準尺寸，然後再進行鑽孔加工。
j.將鐵塊加工成底座。
k.完工後如圖13所示。
圖13施力架設計圖
施力架使用堅固耐用之不銹鋼結構體，試片為PVC及壓克力，因此施力架將能負荷反覆不斷的拉伸試驗。本施力架，其螺距為1MM，而施轉臂桿長400MM，因此操作能夠輕易轉動施力，一直到試片破裂為止，試片的安裝只需兩端以長銷固定，不須螺帽上銷，因此實施上輕鬆容易，而安全無虞。
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