展示用全像片

 

展示用全像片的拍攝方法不勝枚舉﹐如圖8-1﹐即為影像全像片(image hologram) 的拍攝方法﹐所成之影像﹐可使用白光來重建。

一般在分析展示用全像片上,主要在提高繞射效率和成像品質修正,而我們製造過程為以光阻劑曝光翻模之光阻劑法為主。

光阻劑法的最大特性為複製容易,而且複製量大。我們可以用光阻劑來記錄所需的干涉條紋,再藉著顯影的方法以產生表面起伏圖樣的母片,然後對此記錄有全像訊息的母片作電鑄,最後以此電鑄好的金屬模來射出價格相當低廉的熱塑 PC 材料,使其具有吾人所要的全像訊息,以達到大量生產的目的。

展示用全像片的大量製作之母版,基本上可以分為兩種情形,即

 

(1).直接干涉

利用兩道光干涉的方式直接將干涉條紋記錄在感光底片上,其過程如下:

A.將玻璃基材塗上感光劑:

將此將玻璃基材置於旋轉之夾具內旋轉,以使玻璃上之感光劑膜均勻分佈。

B.以雷射全像干涉光成像於此感光膜上。

C.經顯影、定影後鍍上金屬膜(如鎳、銅、鎘、合金等)。

D.將此物置於電解槽中作為負極,而正極則以 同材質之金屬製成,利用放電,將正極之材質離子化後經電解質使得此材質之金屬離子附著於此加工物上電積成形。

E.將電積成形成品剝下,修邊後可製成各種模具,例如置於壓製或射出成型機之模具架上,利用塑膠或壓克力等材料加工成型。

 

(2).電腦製作的全像片(CGH

  其製作方式,基本上是以電腦模擬出放大的干涉條紋圖形,再以光學縮影方式在感光材料上做成為全像片。另一方式乃是將電腦模擬出的干涉條紋圖案,再製作出光罩(或以電子束 (E-beam) 直接將圖案寫在基板上),最後將圖案以曝光方式,在塗滿光阻的玻璃基板轉移,再以蝕刻方式在玻璃上製作出全像片。後面再經電積成形、壓製或射出成型等步驟。

展示用全像片的大量製作之成型方式可分如下兩種:

A.利用平壓法,將此模具置於油壓機上,另製成其對應之壓克力,塑膠或玻璃等凹(或凸)形狀物與此模具吻合,均勻加溫,可將該全像干涉條紋加壓於形狀物上,若要其表面看起來光澤強度高,則可加以各種鍍膜,並可加保護膜保護之。

B.利用滾壓法,將此模具置於滾壓機上,由於是連續生產,因此產量較大。

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