國科會專題研究計畫

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應用於TFT-LCD 光蝕刻與組合製程之低對比、高複雜性檢測影像之自動光學系統之設計與應 用
The designs and applications of an automatic measurement system for the low contrast and complex images in the TFT LCD etching and assembly manufacturing process

執行期間:95/ 8/ 1 ~ 96 7 / 31
NSC 95-2212-E-035-083
 

經費:644000


 

本研究計畫’應用於TFT-LCD (薄膜電晶體液晶顯示器, thin-film transistor liquid-crystal display)光蝕刻與組合製程之低對比、高複雜性檢測影像之自動光學系統之設計與應用’ 主要是針對TFL-LCD面版上的蝕刻電晶體與電路板,進行自動化線上檢測及相關量測之應用。在TFL-LCD光蝕刻與組合製程這兩項應用主軸裡,將可驗證本計畫之成果。

 

本研究計畫提出一個改良式影像樣版比對方法,希望能有效率地對辨識目標作一描述,使得能在圖像比對辨識的過程中,在不失精準度的前提下,大量縮短比對時間。並同時針對光源中心偏移、光源分佈不均之情形與多目標偵測,以梯度方向編碼轉換後,亦能穩定對其目標圖像作一追蹤辨識與定位。透過圖像識別比對技術,去追蹤待測面版上的目標薄膜電晶體影像,並與系統資料庫作一匹配,判斷該目標電晶體為何類別樣式,找出電晶體中心位置,同時,將控制訊息遞交伺服機構,對其檢測流程作一正規化處理,進行線寬線距等量測相關動作。

 

  本研究計畫工作目標如下:

一、完成創新論文

二、完成專利之申請

   也唯有在產學合作、理論創新與智慧財產方面,本計畫成果都能互相交融,而有所斬獲,如此亦才能驗證其成功。