全像干涉量測

 

儀器與設備

全像干涉所使用之儀器與設備如下:

A.氦氖雷射:

本實驗採用之雷射,其輸出頻譜為632nm 之氦氖雷射。其總輸出功率為3 m W以上。

B.防震桌及防震墊

c.光學器件

本實驗採用之光學器件為一片反射率1:1 光學板、兩片反射鏡,KAL02001PSF-1MO-20XPinehole 1-20 各一套,CGM-1CGM-2LAP-3NTC53MB-1各三套。

D.分釐卡:用以量測位置

微調待測螺絲及懸臂樑

 

整體佈置圖

全像干涉量測之整體佈置圖如圖7-1所示。

 

7-1 全像干涉量測佈置圖

 

下一頁 回首頁