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回首頁 全像干涉量測
全像術的干涉圖形常須照相以備分析存檔之用，照相時可以拍攝虛像，也可以拍攝實像，拍虛像時只須將鏡頭置於可以看得到物體影像的地方即可，拍實像時須利用一個屏風，利用實像在屏風上找成像，再對屏風加以拍照。屏風也可以用毛玻璃代替，將其沾濕之後，毛玻璃本身已略為透光，再利用相機透過毛玻璃來拍攝實像。
一般照相用之底片也是鹵化銀器材，性質和所使用的全像片相同，但不同的是一般照相用的底片顆粒較粗，解析度不如全像用底片那麼高，一般照相用底片之感光特性曲線圖（ Hurter-Driffield graph ），和全像底片之感光特性圖有些不同，注意其線性區，若曲線越向左傾斜（即斜率增加增大），則明暗之對比越明顯，越適合干涉圖形照相之用。而曲線傾斜度較和緩的，則較適和拍全像光柵。
在量測方面，全像術有如下幾個特別的應用：
A．機械變形之檢測，例如利用全像干涉量測小位移， 利用全像疊紋干涉量測大位移， 利用雷射之全像斑點干涉法量測位移．．．等等。
B．氣體流場之檢測，例如測量溫度的二維甚至三維的分佈，測量熱傳導特性，測量流場中成分濃度，測量流場中熱質傳遞，多相流（multi-phase flow ）流場之觀察．．．等等。
C．利用全像輪廓術記錄物體輪廓，有雙波長法、浸漬法、雙重光源法及小位移法．．．等等。
D．震動物體之檢測，使用脈衝雷射作同步測量，或連續雷射作均時法測量。