全像之分類

　　以上例子(平形光的干涉與球面波的干涉）說明了全像的基本精神：兩個光場干涉後，再重新用一道光入射其干涉條紋時，將出現當初建立干涉時之另一個光場。當全像所拍攝的是物體時，設參考光為O’之光點源，而照物光則可視為無窮多個O’這種點光源的集合，當這些波交遇後用底片將干涉條紋加以記錄，再利用參考光照射底片時，將再出現這些點光源的集合，亦即物體影像的波前。全像片的佈置，又可分為同軸及離軸式，或是反射式及穿透式等不同的作法，這方面仍可利用圖2-1 的干涉圖加上底片位置來解說：事實上，移動底片的位置，便可得到不同的架設結果。

　　如圖2-1，當底片位於１時，稱之為Gabor（全像的創始者）的同軸式全像片，當底片位於２時，稱之為離軸式全像片，當底片位於３時，稱之為反射式全像片（光源在底片之兩側）。當底片位於４時，稱之為穿透式全像片（光源在底片之同側）。

圖 2-1 底片位置與不同的架設結果

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